ORC紫外線燈UV-SN35

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ORC 直流電源,外線型号:BDE-123ND,功率:12KW;适用于FX-51S,外線FX-61S,外線FX-63 TFT黃光曝光設備。

外形尺寸300(寬)×715(高)×600mm(深)

1.入力電源電壓:200/208/220VAC±10%(自動切替)相數:3相3線周波數:50/60Hz(自動切替)穩定電流:50A以下突入電流:100A以下端子台番号:TB1端子台番号(CHAMBER側):TB649端子台螺絲:M6

2.LAMP輸出控制方式:可以定電力控制方式和定照度控制方式切換穩定輸出:1200W(定電力時)電壓:LAMP點燈初期4分鐘限制80±5A以下LAMP點燈4分鐘過後,外線依存LAMP電壓,外線最大電流限制在120A±5A以下端子台番号:TB2端子台螺絲:M8i線步進式光刻機NSR-SF150,外線用于半導體器件制造。使用ORC高壓汞燈,外線功率7.5KW,外線型号:NLi-7500AL2D!外線ORC紫外線燈UV-SN35

ORC紫外線燈UV-SN35,外線紫外線燈

強紫外線高壓汞燈由石英管材制造而成,使紫外線能高程度及大量的外線穿透,其弧長度/發光長度可由5厘米至300厘米不等,外線常見功率為每厘米30W至200W,外線超大功率UV燈一般在每厘米200W或以上操作,外線該燈光譜有效範圍在350-450nm之間,外線主波峰為365nm,功率由100w-25kw. UV固化在英文中稱UV Curing 或 UV Coating,UV固化是光化學反應,即液态的UV照射可固化材料經印刷或塗布到承印物或工件表面,經UV光線照射實現硬化的過程,UV固化與傳統的幹燥過程相似,但原理不同,傳統的幹燥一般借助于塗敷材料中溶劑的揮發而形成硬化,而UV固化交聯則無溶劑揮發。低壓汞燈紫外線燈CR0200UC以紫外線之力,突破半導體工業的極限。

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i線步進式光刻機NSR-SF155适用于半導體器件的制造。性能:Resolution分辨率≦280nm,NA0.62,Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength),Reductionratio縮小倍率1:4Maximumexposurefield,曝光範圍26mm×33mm,Overlay重合精度≦25nm,Throughput産出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用懸吊投影鏡頭、減輕震動的“天鈎構造”。通過高速運轉的晶圓工作台,實現了每小時200片以上300mm晶圓的高産出。●超高産出采用了适于步進式光刻機的新平台“天鈎構造”,同時晶圓工作台可高速運轉,從而大幅度降低了振動,并實現了高産出。達到了每小時200片以上300mm晶圓的超高産出。高重合精度采用了“天鈎構造”與配重物。并重新配置了空調管路,有利于工作室内的散熱。實現了25nm以下的重合精度。使用ORC制作所生産的7.5KW超高壓汞燈,對應型号:NLi-7500AL2。

于2005年開始,使用尼康Nikon i-line步進式光刻機,型号:NSR-SF140,分辨率≤280nm。這是一種具有高吞吐量和極低擁有成本的掃描場i線步進器。

客戶可以将NSR-SF140用于大規模生産下一代存儲器和微處理器的非關鍵層。NSR-SF140可提高生産率并提高鏡頭性能。光源和透鏡熱管理得到了改進,在典型的生産應用中(即劑量=200mJ/cm2,300mm晶片上的76次曝光)。

光刻設備中光源為紫外線I線,波長為365nm,功率為7.5KW,對應型号為NLi-7500AL2,是日本ORC生産。

光源制作工廠給出壽命時間1500Hr,照度保證時間1500Hr的承諾。

使用步進式光刻機型号:NSR-SF140,NSR-SF150,NSR-SF155;強勁光明,金屬鹵素燈帶你邁向更明亮的未來。

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小型・軽量で、受光部と本體が一體になったハンディタイプの計測器です。UV露光裝置とUVコンベヤーのいずれにも対応した測定器です。露光裝置、UVコンベヤー等の照度と光量の管理ができます。小型、軽量、薄型な、ハンディタイプです。機種は、用途に合わせてUV-351(UV-SD35相當)、UV-351-25(UV-SD25相當)、UV-351-42(UV-SD42相當)からお選びいただけます。光量測定、照度測定、ピーク照度測定など、各種の測定モードを選択できます。メタル・ボディで熱に強く、堅牢な構造です。i線步進式光刻機NSR-2205i12,用于半導體器件制造。使用ORC制作所高壓汞燈,功率2KW,型号:NLi-2011AHL。傳感器紫外線燈UV-SN25

紫外線消毒标準,超高壓汞燈、金屬鹵素燈,工業用燈選擇。ORC紫外線燈UV-SN35

e.高精度單面:針對各大專院校、企業及科研單位,對光刻機使用特性研發的一種高精度光刻機,中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生産。高精度對準工作台、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、曝光頭、氣動系統、真空管路系統、直聯式無油真空泵、防震工作台和附件箱等組成。解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題。2018年11月29日,國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研制,光刻分辨力達到22納米,結合雙重曝光技術後,未來還可用于制造10納米級别的芯片。ORC紫外線燈UV-SN35

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