武漢紅外 溫度傳感器工藝

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即溫度傳感器的武漢溫度輸出導線與鋁層連接以通過鋁層與金屬鉑層連接。上述鉑熱電阻傳感器,紅外利用金屬鉑在溫度變化時自身電阻值也會随着溫度改變的傳感特性來測量溫度,溫度傳感器的器工輸出端子與顯示儀表連接,顯示儀表會顯示受溫度影響得到的武漢溫度鉑電阻對應的溫度值。在一實施例中,紅外因上述熱電阻傳感器中上層有金屬結構如金屬鋁和金屬鉑,傳感對于直接暴露在空氣中時容易氧化的器工金屬層,其上還形成有一層鈍化層,武漢溫度可對金屬層進行保護。紅外同時,傳感需要在對應溫度傳感器引出端子處開設有通孔,器工通過通孔可引出輸出端子。武漢溫度在本實施例中,紅外是傳感在兩端的金屬鋁上方的鈍化層開設有通孔。鈍化層可為氧化矽層或氮化矽層,也可為疊設的氧化矽層和氮化矽層。在一實施例中,測溫單元為一熱電偶傳感結構,包括:多晶矽層,包括并排且間隔設置的n型多晶矽條和p型多晶矽條;和第三金屬層。第三金屬層包括位于相鄰多晶矽條之間的金屬結構,n型多晶矽和p型多晶矽通過金屬結構串聯,第三金屬層還包括位于多晶矽層外側兩端的第二金屬結構,用于引出溫度傳感器的輸出端子。如圖和圖所示,氧化矽薄膜上形成有一層多晶矽層。該多晶矽層包括并排且間隔設置的n型多晶矽條和p型多晶矽條。溫度傳感器哪家服務好?認準深圳市美信美科技有限公司。武漢紅外 溫度傳感器工藝

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p型多晶矽可為在多晶矽内部摻雜ⅲ族元素形成導電類型為p型的多晶矽,且其内部摻雜均勻。n型多晶矽條和p型多晶矽條形狀相同,在本方案中,n型多晶矽條和p型多晶矽條為長條型,多晶矽條平行設置,具有相同的間距。步驟s135:在多晶矽層上澱積第三金屬層,第三金屬層包括位于相鄰多晶矽條之間的金屬結構,n型多晶矽條和p型多晶矽條通過金屬結構串聯,第三金屬層還包括位于多晶矽層外側兩端的第二金屬結構,用于引出溫度傳感器的輸出端子。繼續參見圖5和圖6,在多晶矽層50上澱積第三金屬層60,第三金屬層60包括金屬結構61和第二金屬結構62。金屬結構61位于相鄰多晶矽條之間以連接該多晶矽條,具體為位于相鄰多晶矽條端部位置,所有n型多晶矽條51和p型多晶矽條52通過該金屬結構61形成一串聯結構,因此,當具有m個多晶矽條時,需要m-1個金屬結構61使多晶矽條串聯起來。一個n型多晶矽條與一個p型多晶矽條串聯形成一個塞貝克(seebeck)結構,在本方案中,是多個塞貝克結構串聯形成一個測溫單元,因此,m需為偶數。第二金屬結構62澱積于多晶矽層外側的兩端,以便于引出溫度傳感器的輸出端子。在本實施例中,第三金屬層60為金屬鋁層。上述熱電偶傳感結構,利用半導體兩端的溫度不同時。上海NTC溫度傳感器報價進口的德州溫度傳感器,就找深圳美信美科技。

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上述溫度傳感器制備方法,可以得到氧化矽薄膜,且氧化矽薄膜與矽通過空腔隔離,空腔下方的矽不會影響上方氧化矽薄膜的隔離效果,因此無需通過深槽刻蝕工藝将多餘的矽刻蝕掉,簡化了制備過程,節約制備時間,節省了制備成本。由于氧化矽薄膜導熱率低,将測溫單元制備在氧化矽薄膜上,具有較好的測溫效果,使溫度傳感器性能更加穩定。本發明還涉及一種溫度傳感器,包括:基底,基底包括矽片和在矽片上形成的氧化矽薄膜,矽片和氧化矽薄膜之間形成有空腔;和測溫單元,測溫單元形成于所述空腔上方的氧化矽薄膜上,所述測溫單元用于感測環境溫度。如圖2c所示,基底包括矽片20和氧化矽薄膜23,矽片20和氧化矽薄膜之間形成有空腔22。測溫單元是溫度傳感器的工作單元,溫度傳感器通過該測溫單元感知溫度後形成電信号并輸出,在本方案中,測溫單元形成于氧化矽薄膜23上且位于空腔上方。在一實施例中,測溫單元為一熱電阻傳感結構,包括:金屬層,金屬層為金屬鉑層,金屬鉑層呈連續弓字形結構;和第二金屬層,位于金屬鉑層外側兩端,用于引出溫度傳感器的輸出端子。如圖3和圖4所示,氧化矽薄膜23上澱積有一層金屬層30,該金屬層30為金屬鉑層,即熱電阻傳感結構選用鉑熱電阻。

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